世界最先端技術国・日本は2nmを目指す。

2nmプロセスが日本で出ています!長年蓄積されたこの強さ、強すぎる
 日本の半導体業界に関して言えば、業界のほとんどの人は自分たちの長所と短所を十分に理解しています。利点の点では、それらの半導体機器、材料、受動部品、無線周波数、さらにはパワーデバイスは世界最高です。たとえば、現在人気のある第3世代半導体、5G無線周波数、EUVフォトレジストでは、他の競合他社にはない利点があります。

2nmの戦い
 彼らはキヤノン、東京エレ、SCREENなどの地元の大手機器メーカーとも協力して活性化する日本の高度な研究開発を行います。
 報道によると、経済産業省からの資金援助を受けるべきこの研究開発チームは、2020年代半ばに2nm以降の次世代半導体の製造技術を確立し、開発するためのテスト生産ラインを設置することを目指しています。微細回路の加工や洗浄などの製造技術。
 日本には工場はありませんが、高度なプロセスの上流工程で非常に重要な立場を持っています。ホットEUVリソグラフィーを例にとると、オランダの会社ASMLが世界をリードするEUVリソグラフィーマシンを提供できることは誰もが知っています。
 これまでの半導体業界の観察報告では、この分野の複数のリンクで日本企業の強みを見ることができます。
 まず、欠陥検出装置を見てください。元の回路基板としてフォトマスクに欠陥があると、それに応じて半導体の欠陥率が増加します。
 近年、特にEUVフォトマスク(フォトマスクおよび半導体回路用マスク)検査装置の需要拡大が見られます。この分野では、日本のレーザーテック株式会社が世界で唯一の試験装置メーカーであり、レーザーテックは世界市場100%を占めています。

 もう1つの日本での100%の市場シェアは、開発用の半導体材料としてシリコンウェーハに特殊な化学液体を塗布するために使用される東京エレクトロニクスのEUVコーティングおよび開発装置です。東京電力は1993年にFPD生産設備コーター/開発者の販売を開始し、2000年には1,000人のコーター/開発者「CLEANTRACKACT8」を納入しました。
 EUVフォトレジストに関しては、日本の市場シェアははるかに進んでいます。今年3月にナンダオプトエレクトロニクスが発表した関連レポートによると、下図に示すように、この分野での強みを示すEUVフォトレジストを開発しているのは世界の日本メーカーだけです。

 高度なプロセスの研究開発に関しては、もう1つの重要なリンクがあります。それは、このセクションの冒頭で述べたEUVリソグラフィーマシンです。そのため、日本は高度なプロセスの研究開発にキヤノンを含めました。
 日本にとって、半導体チップ製造に波を起こしたいのであれば、自信を持っていることを示しています。同時に、富岳の「スーパーコンピューティング」に搭載された富士通の48コアArmチップA64FXとSocionext 5nmチップの超性能は、日本も先進チップに強みを持っていると述べています>(以上「
快科技」より引用)


 
<台湾の半導体製造メーカーTSMCが、2nmプロセスによるプロセッサ開発の研究開発に着手済みだと公式に発表したことが、海外報道にて伝えられています。
 この「製造プロセス」とは、高性能半導体の進化に大きく関連する世代指標であり、昨今では世代交代の速度低下が危惧されてきました。TSMCが語った2nmとは、現行の最先端から3世代先となるものであり、数年先の半導体でも進化の速度を落とさないことを目指すというアピールでもあります。今回の情報は、台湾紙のDigiTimsがTSMCの年次報告書をもとに伝えたもの。
 それによると、同社は2019年からすでに2nmプロセスの研究開発に着手しており、さらに微細なプロセスの予備研究もすすめているとしています。スマートフォンのプロセッサ(SoC)や、PC向けのCPUやGPU、各種メモリをはじめとする高性能半導体の進化と密接に関係するのが、半導体の製造プロセスです。
 これは、いわば半導体の製造世代を示す数値で、長さが短ければ短い(=微細化する)ほど世代が新しく、半導体としての性能が高い(同じ面積により多くのトランジスタを集積でき、結果的に電力対性能の効率が上がる)ことを意味します。

 プロセッサの微細化で他社を先行するTSMCは、すでに現状で最先端とされる「7nm」プロセス製品を出荷しており、その中には米アップルのA12/A13シリーズプロセッサも含まれます。またプロセスの微細化は一般的に、プロセッサの性能向上だけでなく省電力化にも貢献します。

 TSMCは7nmプロセスの次となる5nmプロセスに年内にも移行する予定で、このプロセスは米アップルの次世代プロセッサ「A14シリーズ(仮称)」への採用が予測されています。さらに同社は2022年〜2023年頃に3nmプロセス、そして2025年頃には2nmプロセスへと移行することが期待されています。

 一方他社を見回すと、韓国サムスンは昨年に5nmプロセス製品のサンプル出荷を開始し、2020年にも同プロセスの採用製品の量産を開始する予定です。
 一方、10nmプロセスの導入に苦しむ米インテルは、7nmプロセスや5nmプロセスへの移行計画を発表しているものの、先述の2社には遅れをとる可能性が高くなっています。

 半導体技術は日進月歩で進化し、ファウンダリ(製造業者)間の競争も激しいものの、TSMCが微細化技術で他社をリードする状況はしばらくは変わらないようです>(以上「ENGADGET」より引用)




 nmとは 国際単位系の長さの単位で、10−9メートル (m) = 10億分の1メートル。 SI基本単位であるメートルに、基礎となる単位の10−9の量である事を示すSI接頭辞のナノを付けた単位のことだ。通常「ナノ・メートル」と呼ばれる極めて微細な世界の話だ。ちなみに1 nmは髪の毛の太さの約10万分の1の細さだ。
 その微細な単位は何を測定しているのかというと、チップに詰め込まれた無数の半導体を連絡する電子回路の幅のことだ。なぜ微細な回路を張り巡らすのかというと、コメ粒ほどのチップに無数の半導体を詰め込むためだけの為ではない。微細な回路により半導体を製造すると消費電力が少なくなると同時に、高電圧化も実現するという。

 かつて日本は世界のチップの50%ものシェアを占める半導体王国だった。出荷額では米国を抜き世界一位だった。そうした日本の半導体技術に恐れをなした米国は日本の半導体に強力な制裁を課した。1980年代に勃発した日米半導体戦争で日本は米国の圧力に完全に屈し、日米半導体協定により日本国内の半導体製造は解体された。
 1991年に第二日米次半導体協議により日本の半導体製造は見る影もないほど衰退した。それ以降、台湾と韓国が日本に代わって半導体製造の大国になった。現在では台湾のTSMCが世界の冠たるチップ製造トップ企業となっている。TSMCが世界の電子機器製造業者に提供するチップは7nmのものだ。それにより自動車や電気製品などの「自動制御装置」が動いている。

 現在、世界はしのぎを削って5nmチップ製造に乗り出そうとしている。ことに中国のHAUWAIは米国トランプ大統領によるチップ制裁により7nmチップの供給が立たれて、スマートフォンの製造を諦めざるを得なくなった。現状で中国企業が作れるチップは14nmの段階まで製造できないため、慌てた中共政府は数兆円の予算を投じて国内企業に7nmチップ製造を行うように督励した。
 前段で引用した記事は中国紙の「快科技」のものだ。中国のマスメディアはすべて国営だから「快科技」も国営のマスメディアだ。いかに中共政府が日本の先進技術に注目しているかお解りだろうか。それに反して、日本のマスメディアに「快科技」のような記事が掲載されないのは何故だろうか。

 日本は2020年代に5nmや3nmを飛び越えて2nmチップの実現を射程に入れている。ただ日本で微細なチップの設計図は作れても、それを製造する「精密機械」は造れない。チップ製造機械の製造は世界で唯一オランダの企業だけだ。
 しかし日本は世界で最先端のチップ製造設計の出来る技術を持っている。最低でも7nmのチップがなければ、高性能ミサイルを飛ばすことは出来ない。中共政府が配備している高性能ミサイルは7nmチップの在庫がなくなれば製造できなくなるという。だからこそ、中共政府は焦って去年の夏に巨額補助金を用意して中国内の企業に7nmチップ制沿いを督励したが、今現在も中国企業が7nmチップ製造を開始したとの報はない。

 日本政府は最先端技術に予算を投入すべきだ。最先端技術は安全保障の一環としても役立つ。デジタル庁などといった浮ついたものではなく、先端技術を日本の技術として保護し、海外(主として中国と韓国)へ流出しないように注意すべきだ。中共政府はノドから手が出るほど、日本の最先端技術を狙っている。
 そしてオランダ企業に独占されているチップ製造機械の開発も行うべきだ。日本の匠の技を結集すれば、決して出来ないことないだろう。かつて米国は日本の最先端技術に恐れをなして徹底的に破壊したが、その愚かさに気付いたようだ。彼らが日本の対立軸として育成した中国が米国の真の敵だとやっと認識したようだ。

 だが用心すべきは知的財産の漏洩と海外流出だ。日本にスパイ防止法がないから知的財産が盗まれる、と危惧する専門家たちがいるが、その前に日本政府は「技術実習生」と称する若者たちを大量に受け容れた。それ以後、韓国から日本の種子を用いたイチゴやサクランボなどを輸出するようになった。
 日本政府には国内の知的財産を積極的に韓国や中国に盗まれるように仕向けているフシがふる。それに対して、中共政府は「千人計画」と称する、外国の大学や研究機関に留学生(留学生に人民解放軍の軍人が紛れ込んでいるといわれているが)を送り込み、研究成果を盗み取るように仕向けているという。日本の大学や企業の研究機関にも大量の中国人留学生が来ている。彼らを受け容れるように促進したのは誰だろうか。

 半導体戦争は1980年代の日米間だけのことではない。現在も熾烈な戦争を繰り広げている。日本の優位性を守り、そして日本国民の備わっている「匠の技」を発展させて、モノ造り大国の復活を目指すべきだ。日本の経済成長に2nmチップ製造は欠かせない。政府が予算を投じるべきは監視社会の実現を目指すデジタル化ではなく、世界最先端の技術開発ではないか。

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